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四 . 悬浮分子污染（ AMC ） 4.2AMC 控制的实施情况 对线宽 0.25μm 的 IC 生产，一般已常在新风处理中设活性炭过滤器；有关关键工序以及工序间园片的传送及存放，有的生产厂采取了 AMC 控制，有的生产厂则并未进行控制，主要在于经济效果的衡量上，有关具体控制要求及措施报道甚少见，可能是由于保密的原因，但一点可以肯定，只能在局部环境内进行控制。 为满足 φ300mm 园片，＜ 0.15mm 线宽的加工要求，近年来对 AMC 控制，重点在以下三方面开展工作： (1) 精确的测量技术及标准测试方法的建立。因为这是掌握 AMC 控制的基础，必须先行； (2) 按今后 IC 的生产要求，生产线的设备采用微环境隔离，各设备间园片的传送采用前开式标准片盒（ FOUPs ）系统，对园片进行隔离。因此，早已对设备、 FOUPs 系统及微环境所用的材料要求不释放及吸附有关悬浮分子污染物的问题以及对此污染物的去除措施进行研发，并不断改进中； (3) 控制 AMC 的过滤器。 近年来尤其是近 2 ～ 3 年来，对控制 AMC 过滤器的开发及推出有少进展； A. 不释放 AMC 物质的 HEPA/ULPA ； a. 低硼超细玻璃纤维过滤器，现已在亚洲及欧洲的 IC 厂使用较多； b. 多孔聚四氟乙稀（ ePTFE ）过滤器，为薄膜结构，价格比 a 要高出十倍左右。目前使用尚不多，正在开发下一代的。 B. 化学过滤器 目前已推出的化学过滤器主要是： a. 活性炭过滤器，大多数是晶粒状的，有盘片式、蜂窝式等；亦已有活性炭纤维过滤器，具有吸附速度快的特点，价格尚较高；还已有晶粒与纤维粘合的过滤器。 b 无纺合成织物上浸渍各种功能晶粒（如活性炭、活性铝，但主要是活性炭）以吸附 AMC 物质。 至今，据报道， φ300mm 园片加工除二条试验生产线外，已有四条生产线（德国一条、美国一条、我国台湾二条）开始运转，对 AMC 的控制情况，当然不详，但洁净室环境为 ISO5 ～ 6 级，对洁净室设计较简单些。可以看到，今后 IC 生产，其生产环境的污染控制重点必然转到工艺设备及园片传、存放系统的研发及制造上。 洁净网 (责任编辑：admin) |
